3D 打印

Potomac 将 SU8 光刻技术添加到微加工工具箱中

Since IBM’s development in 1989 of SU-8 photoresist for use as a key component for high-resolution microelectronics manufacturing, other industries have adopted the photosensitive polymer for a wide range of applications.  Whether…

Potomac 将 SU8 光刻技术添加到微加工工具箱中
SU8 在硅片上对 45x45x80μm 柱进行光刻

自从 IBM 于 1989 年开发出 SU-8 光刻胶作为高分辨率微电子制造的关键组件以来,其他行业已将这种感光聚合物用于各种应用。无论是制造微流体、微柱和圆柱、微型齿轮和悬臂还是光波导,SU-8 独特的材料特性都扩展了微型产品的功能。SU-8 现在是制造微流体设备、微机电系统 [MEMS] 和微反应器的标准材料。

SU-8 是一种负性光刻胶,也就是说,在用紫外线成像并固化后,图案几乎永久地粘附在基材上。它具有机械、热和化学稳定性,可以涂覆在基材上,产生高纵横比特征。

SU-8 与光刻技术的结合还为 Potomac 提供了另一种在硅上制造微流体特征的工具,硅是一种具有高热有机性和耐化学性的材料,用于制药、化学和生物化学应用的微反应器。Potomac 的研发团队正在积极与工业和学术伙伴合作,将这项技术商业化,用于制药、化学和生物化学应用。最近,这项技术还进入了单细胞测序领域。此处图片中显示的特征是 45x45x80mm 的柱子,可用于铸造硅胶(聚二甲基硅氧烷,PDMS)模具,该模具可产生用于捕获单细胞的微孔。  

SU-8 光刻技术以及标准光刻技术只是 Potomac 用来为先进制造应用提供快速、经济高效和创新的制造解决方案的众多工具中的一小部分。从激光加工、蚀刻或焊接、微型 CNC 加工、3D 打印、热压或 SU-8 光刻,Potomac 可以为特定工作选择合适的工具。

我们要特别感谢马里兰大学巴尔的摩分校 (UMBC) 微加工、机械加工和电子 (MME) 专业的 Tim Buckheit,他为我们的 SU-8 光刻开发项目提供服务并贡献专业知识。

 

图片说明:A) SU8 模具 45x45x80um 和 B) PDMS 模具 45x45x80 um
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